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ナノシステムソリューションズの設備

沖縄本社にあるナノシステムソリューションズの設備は世界へ通用する最先端技術を提供するために環境ともに考え抜いた設備となっております。

沖縄県内初のクリーンルームの設置

クリーンルームとは?

外気を遮断して閉鎖された設備で、空気清浄度が確保された部屋のことです。また、持ち込まれる材料や機材、働く人がダスト(ゴミや不純物)を部屋へ持ち込まないように厳しく管理しています。半導体製造にはこのクリーンルームが必要となります。

クリーンルーム100(ダスト100個以下)
クリーンルーム1000(ダスト1000個以下)

クラス100以下のクリーンルームは沖縄県内では当社が初めてこのクラスを設置しました。
※ダスト数について一般的な事務所が100万個程度、病院のオペ室が5万個程度
(※ダスト数:1立方フィート中にある0.5µm以上のダストの数のこと)

高レベルに温度管理された恒温環境

弊社で生産する製品は温度依存性が非常に高く、生産環境に温度変化があると金属の微妙な伸び縮みの影響で精度が変わってしまい不良品を生むこととなってしまいます。そのため、クリーンルーム内では常に一定の温度を保つ事が必要となり、365日24時間温度管理をする事となります。

弊社のクリーンルームは年間を通して23℃に設定されており、当然この温度環境に近いほどエネルーギーコストが圧縮されます。設備の立地する沖縄ではここ10年間の平均気温が23℃というクリーンルームの設定温度と同一であることから温度管理のコストを大きく削減できるとともに設備の負担が小さくなる分耐久力も上がる事となります。


トリートメント室
工場へダストを持ち込まないようにトリートメント室でダストを取り除きます。
装置搬入出用前室
装置搬入出時の準備を行います。

施設画像ギャラリー

設備 仕様
クリーンルーム クラス100・クラス1000
金属顕微鏡 分解能:0.26µm
レーザー顕微鏡 分解能:平面0.12µm 高さ:0.01µm
走査電子顕微鏡 二次電子像分解機能:
3.0nm(加速電圧30kV、WD=5mm、高真空モード)
7.0nm(加速電圧3kV、WD=5mm、高真空モード)
反射電子像分解機能:
4.0nm(加速電圧30kV、WD=5mm、低真空モード)
10.0nm(加速電圧5kV、WD=5mm、高真空モード)
倍率:x5~x300,000 / x7~800,000
加速電圧:0.3~30kV
最大試料寸法:200mm径
ZYGO フィゾー干渉計 高さ分解能:λ/2干渉縞観察レベル
恒温ブース 23度 ±0.03度
膜厚測定器 FILMETRICS:F20
非接触高分解能表面形状測定装置 スキャン長:100mm 最小サンプリング間隔:50nm
分解能:1Å