概要
マスクレス露光装置は、PC上で作画した任意のパターンデータを、フォトマスクを用いることなく直接基板上のフォトレジストに転写できる露光装置です。
DMD（Digital Micromirror Device）を用いた独自のパターン縮小投影技術で、世界で初めて最小画素 1μmを実現。この度、スキャニング方式が新たにシリーズに加わり処理能力がさらに向上しました。また、レジストの三次元加工が容易に行えるグレースケール露光は市場の新たなニーズに対応。
ナノエレクトロニクス・半導体・MEMS・μTASなどの研究開発分野に加え精密転写用型の試作、少量多品種のデバイス製造へと応用が広がります。
DL-1000シリーズは圧倒的なパフォーマンスで直接描画をリードします。
特長
※最小画素１μmで自由度の高いパターニングが可能
※コンパクトな本体、優れた操作性・メンテナンス性を実現
※スキャニング方式は200mm2/min以上の高速描画
※グレースケール画像の投影でレジストの三次元加工が可能
※薄い透明基板にも対応する独自のオートフォーカス技術
※様々な厚さ（〜100μm以上）の多様なレジストに対応
※滑らかな曲線を描く高精細露光モード搭載
※１回の露光で最適条件が決まるテスト露光モード搭載
※TTLアライメントと画像処理による高精度重ね合わせ
※露光パターンと下地パターンの同時観察機能
※CADフォーマットはDXF、GDS?に対応
※光学倍率やステージストロークの変更も柔軟に対応
用途
※開発・試作向けの直接描画装置として
※フォトマスクの製造装置として
※電子ビーム描画装置の共用装置として
露光例
|
（描画方式にてデータ作成）
